Wissen, Matthias:
ISBN 9783899597202

Thermisches Nanoimprint in UV vernetzende Fotolacke. Mikro- und Nanostrukturierung Bd. 1 # Pb., 136 S., 65 Abb., davon 37 in Farbe, 7 Tab.

SCHLAGWORTE:
Nanoimprint
Lithographie, hybride
Arbeitsstempel

Thermisches Nanoimprint ist ein mechanischer Replikationsprozess, bei dem ein strukturierter Stempel bei erhöhter Temperatur unter erhöhtem Druck in ein thermoplastisches Material abgeformt wird. Schmale Strukturen im sub-Mikrometerbereich und kleiner sind dabei auf Grund des notwendigen Materialtransportes leichter zu übertragen, als verhältnismäßig breite Strukturen von einigen 10 Mikrometern und breiter. Für die UV-Lithografie verhält es sich gerade umgekehrt. Schmale Strukturen können nur mit hohem Aufwand definiert werden. Da selbst relativ einfache Anwendungen im Rahmen der Mikroelektronik, wie beispielsweise Photodetektoren, unterschiedlichste Strukturbreiten aufweisen, können strukturbreitenabhängige Effekte während des Nanoimprint die simultane Replikation solcher Stempelstrukturen beeinträchtigen. Eine Möglichkeit diese Effekte zu verringern besteht aus der Kombination von verschiedenen Lithografietechniken zu einer hybriden Lithografie. Für eine Kombination von thermischen Nanoimprint und UV-Lithografie ist dafür ein Material von Nöten, dass sowohl thermoplastisch, als auch UV sensitiv ist.
Im Rahmen dieser Arbeit galt es auf der Basis kommerziell verfügbarer, UV vernetzender Negativlacke, die Potenziale einer hybriden Lithografe aus thermischen Nanoimprint und UV-Lithografe herauszuarbeiten und näher zu beschreiben, aber auch ihre Limitationen aufzudecken. Ferner konnten auf Grund der vernetzenden Eigenschaften der hier verwendeten Fotolacke, durch Mehrfachabformungen Kopien des Originalstempels hergestellt werden, die als Alternative zu den kostspieligen Originalen anzusehen sind.

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