Bogdanski, Nicolas:
ISBN 9783899597806

Partial cavity filling in thermal nanoimprint. Mikro- und Nanostrukturierung Bd. 3 # Pb., 138 S., 54 Abb., davon 36 in Farbe, 3 Tab.

SCHLAGWORTE:
Nanoimprint
Lithographie
Restschicht
Recovery
Self-assembly

Thermisches Nanoimprint ist eine Replikationsmethode, bei der Strukturen von vielfältiger Beschaffenheit und Größe unter Druck- und Temperatureinfluss von einem Original (Stempel) in ein thermoplastisches Polymer übertragen werden.
Falls die so erzeugten Strukturen als Maske in einem Lithographieprozess zur Anwendung kommen sollen, entsteht vor allem bei komplexen Strukturen eine Restschichtproblematik. In diesem Buch wird ein alternativer Imprint-Ansatz zur Umgehung dieser Problematik vorgestellt. Durch diesen neuen Ansatz verursachte Imprinteffekte werden untersucht und diskutiert.



Thermal Nanoimprint is a replication technique by which patterns of manifold shapes and sizes are transferred from an original (stamp) to a thermoplastic polymer under pressure and temperature influence.
In case the patterns thereby generated are to be used as a mask in a lithography process, in particular with complex pattern layouts problems with residual layers tend to arise (occur). This book presents an alternative imprint approach aimed at evading this problem. Further, some imprint effects involved in this new approach are addressed and discussed.

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